TFT-LCD tootmisprotsessis CVD-sadestamise protsessis kasutatav protsessi spetsiaalne gaas: silaan (S1H4), ammoniaak (NH3), fosfor (pH3), naer (N2O), NF3 jne ning lisaks protsessiprotsessile Kõrge puhtusastmega vesinik ja kõrge puhtusastmega lämmastik ja muud suured gaasid.Pommitamisprotsessis kasutatakse argooni ja pihustuskile gaas on pritsimise peamine materjal.Esiteks ei saa kilet moodustavat gaasi sihtmärgiga keemiliselt reageerida ja sobivaim gaas on inertgaas.Söövitusprotsessis kasutatakse ka suures koguses spetsiaalset gaasi ning elektrooniline erigaas on enamasti tule- ja plahvatusohtlik ning väga mürgine gaas, mistõttu on gaasiteele esitatavad nõuded kõrged.Wofly Technology on spetsialiseerunud ülikõrge puhtusastmega transpordisüsteemide projekteerimisele ja paigaldamisele.
Spetsiaalseid gaase kasutatakse peamiselt LCD-tööstuses kilede moodustamise ja kuivatamise protsessides.Vedelkristallekraanil on lai valik klassifikatsioone, kus TFT-LCD on kiire, pildikvaliteet on kõrge ja kulusid vähendatakse järk-järgult ning praegu kasutatakse kõige laialdasemalt kasutatavat LCD-tehnoloogiat.TFT-LCD paneeli tootmisprotsessi saab jagada kolmeks peamiseks faasiks: eesmine massiiv, keskmisele orienteeritud kastmisprotsess (CELL) ja etapijärgne mooduli kokkupanemise protsess.Elektroonilist erigaasi kantakse peamiselt eelmise massiivi protsessi kile moodustamise ja kuivatamisetappi ning peale kantakse SiNX mittemetallist kile ja värav, allikas, äravool ja ITO ning metallkile, näiteks värav, allikas,drainandITO.
Lämmastik / hapnik / argoon roostevaba teras 316 poolautomaatne ümberlülitusgaasi juhtpaneel
Postitusaeg: 13. jaanuar 2022