Kõrge puhtusastmega gaasi roostevabast terasest pneumaatiline membraanklapp 1/4 tolli kõrgsurvega
Tootekirjeldus
Pneumaatilise diafragma ventiili spetsifikatsioon
| Tehnilised andmed | ||
| Pordi suurus | 1/4" | |
| tühjenduskoefitsient (Cv) | 0.2 | |
| Maksimaalne töörõhk | Käsiraamat | 310 baari (4500 psig) |
| Pneumaatiline | 206 baari (3000 psig) | |
| Pneumaatilise täiturmehhanismi töörõhk | 4,2–6,2 baari (60–90 psig) | |
| töötemperatuur | PCTFE: -23 ~ 65 ℃ (-10 ~ 150 ℉) | |
| Lekkekiirus (heelium) | sees | ≤1×10-9 mbar l/s |
| välised | ≤1×10-9 mbar l/s | |
| Voo andmed | ||
| õhk @ 21 ℃ (70 ℉) vesi @ 16 ℃ (60 ℉) | ||
| Maksimaalse õhurõhu baari rõhulang (psig) | õhk (lmin) | vesi (l/min) |
| 0,68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3,4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6,8 (100) | 300 | 7.6 |
Puhastusprotsess
▶standard (WK-BA)
Kõik keevisliited tuleb puhastada vastavalt ettevõtte standardsetele puhastus- ja pakkimisnõuetele.
Tellimisel järelliidet lisada ei ole vaja
▶Hapnikupuhastus (WK-O2)
Saab esitada toote puhastamise ja pakendamise spetsifikatsioonid hapnikukeskkonna jaoks.See toode vastab
astmg93c puhtuse nõuded.Tellimisel palume lisada tellimuse numbri järele – O2
▶Ülikõrge puhtusastmega (WK-EP)
Võib pakkuda kontrollitud pinnaviimistlust, elektropoleerimist Ra0 kolmteist μm.Deioniseeritud
vee ultraheli puhastus.Tellimiseks lisa tellimuse numbri järele – EP
Kõik keevisliited tuleb puhastada vastavalt ettevõtte standardsetele puhastus- ja pakkimisnõuetele.
Tellimisel järelliidet lisada ei ole vaja
▶Hapnikupuhastus (WK-O2)
Saab esitada toote puhastamise ja pakendamise spetsifikatsioonid hapnikukeskkonna jaoks.See toode vastab
astmg93c puhtuse nõuded.Tellimisel palume lisada tellimuse numbri järele – O2
▶Ülikõrge puhtusastmega (WK-EP)
Võib pakkuda kontrollitud pinnaviimistlust, elektropoleerimist Ra0 kolmteist μm.Deioniseeritud
vee ultraheli puhastus.Tellimiseks lisa tellimuse numbri järele – EP
 | Peamised konstruktsioonimaterjalid | ||
| Seerianumber | element | materjali tekstuur | |
| 1 | Käepide | alumiiniumist | |
| 2 | Täiturmehhanism | alumiiniumist | |
| 3 | Klapi vars | 304 SS | |
| 4 | Kapott | S17400 | |
| 5 | Kapoti mutter | 316 SS | |
| 6 | Nupp | messing | |
| 7 | diafragma (5) | Nikli koobalti sulam | |
| 8 | klapipesa | PCTFE | |
| 9 | klapi korpus | 316L SS | |
Mõõdud ja tellimisinfo
Otse läbi tüüp
suurus
Mõõtmed on toodud tollides (mm) on ainult viitamiseks
suurus
Mõõtmed on toodud tollides (mm) on ainult viitamiseks
| Põhitellimuse number | Pordi tüüp ja suurus | suurus (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | 1/4" toru -W | 0,44 (11,2) | 0,30 (7,6) | 1,12 (28,6) | 1,81 (45,9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4" FA-MCR | 0,44 (11,2) | 0,86 (21,8) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4″ MA-MCR1/4 | 0,44 (11,2) | 0,58 (14,9) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0,44 (11,2) | 0,70 (17,9) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
Kaasatud tööstused
TFT-LCD
TFT-LCD tootmisprotsessi CVD-sadestamise protsessis kasutatavad spetsiaalsed gaasid on silaan (S1H4), ammoniaak (NH3), fosfiin (PH3), dilämmastikoksiid (N2O), NF3 jne. Lisaks kõrge puhtusastmega vesinik ja kõrge protsessi kaasatakse ka puhtusega lämmastik ja muud lahtised gaasid.Pommitamisprotsessis kasutatakse argooni ja pihustatud kilet moodustav gaas on pritsimise peamine materjal.Esiteks on nõutav, et kilet moodustav gaas ei saaks sihtmärgiga reageerida ja kõige sobivam gaas on inertgaas.Söövitusprotsessis kasutatakse ka suures koguses spetsiaalset gaasi, samas kui elektrooniline erigaas on enamasti tuleohtlik, plahvatusohtlik ja väga mürgine, mistõttu on gaasikontuurile ja tehnoloogiale esitatavad nõuded väga kõrged.Wofei Technology on spetsialiseerunud ülikõrge puhtusastmega spetsiaalse gaasiülekandesüsteemi projekteerimisele ja paigaldamisele.
Spetsiaalseid gaase kasutatakse peamiselt kile moodustamise ja kuivsöövitamise protsessides LCD-tööstuses.LCD-ekraane on palju, nende hulgas TFT-LCD on kiire reageerimisaja, kõrge pildikvaliteedi ja järk-järgult madalamate kulude tõttu kõige laialdasemalt kasutatav LCD-tehnoloogia.TFT-LCD paneeli tootmisprotsessi saab jagada kolme etappi: esimassiivi, keskmise raku ja tagumise mooduli kokkupanek.Elektroonilist spetsiaalset gaasi kasutatakse peamiselt eesmise massiivi protsessi kile moodustamise ja kuivsöövitamise etapis.Pärast mitut kile moodustamise protsessi sadestatakse aluspinnale vastavalt SiNx mittemetallist kiled ja metallkiled, nagu võre, allikas, äravool ja ITO.
Q1.Aga tarneaeg?
V: Proov vajab 3-5 päeva, masstootmise aeg 1-2 nädalat, et tellida rohkem kui
Q2.Kas teil on MOQ limiit?
V: Madal MOQ 1 pilt.
Q3.Kuidas kauba kohale toimetada ja kui kaua kohalejõudmine aega võtab?
V: Tavaliselt tarnime DHLi, UPSi, FedExi või TNT kaudu.Tavaliselt kulub 5-7 päeva.Lennu- ja meretransport on samuti valikuline.
Q4.Kuidas tellimust edasi teha?
V: Kõigepealt andke meile teada oma nõuded või taotlus.
Teiseks pakume pakkumist vastavalt teie nõudmistele või meie soovitustele.
Kolmandaks kinnitab klient proovid ja paneb ametliku tellimuse eest sissemakse.
Neljandaks Korraldame tootmist.
Kirjutage oma sõnum siia ja saatke see meile
